<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotorezist on UV Lamp Lab</title>
		<link>http://uv-lamp-lab.com/tr/tags/fotorezist/</link>
		<description>Recent content in Fotorezist on UV Lamp Lab</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>tr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 10:29:57 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-lamp-lab.com/tr/tags/fotorezist/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Fotorezist için galyum iyodür lambası</title>
				<link>http://uv-lamp-lab.com/tr/posts/gallium-iodide-lamp-for-photoresist/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 10:29:57 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-lamp-lab.com/tr/posts/gallium-iodide-lamp-for-photoresist/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-lamp-lab.com/images/1dd7856afed9d1a9a2f49fb2a00ef960.png&#34; alt=&#34;Fotorezist için galyum iyodür lambası&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Flexo baskısında desenlerde bulanıklık ve halo etkisi görülür. Bunun sebebi genellikle her yerde mevcut olan UV ışınlarıdır; bu durum, maksimum ışınım düzeylerinde değişikliklere, spektral çıktılarda sapmalara ve mürekkep tabakasının ihtiyaç duyduğundan daha düşük sertleşme eşiklerine yol açar. Bunun &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;sonucunda&lt;/a&gt; israf edilen malzeme, yeniden işlemler ve beklenmeyen duruşlar ortaya çıkar.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Teknik olarak önemli olanlar&lt;/strong&gt;&#xA;Galyum iyodür lambaları, 254 nm’deki cıva ışınlarını baskılayarak UV ışınlarının şeklini değiştirir ve daha fazla &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;enerjiyi&lt;/a&gt; 365–405 nm aralığına yönlendirir. Bu spektrum, birçok etiket mürekkebi ve foto direnç sisteminin fotoinitiyatörlerinin emilim özellikleriyle uyumludur. Böylece bağlanma süreci hızlanır ve aynı zamanda fazla ısı da kontrol altında tutulur.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
