<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Compensazione on UV Lamp Lab</title>
		<link>http://uv-lamp-lab.com/it/tags/compensazione/</link>
		<description>Recent content in Compensazione on UV Lamp Lab</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>it</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 03 Jun 2026 05:19:30 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-lamp-lab.com/it/tags/compensazione/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampada UV al mercurio per stampa offset</title>
				<link>http://uv-lamp-lab.com/it/posts/mercury-uv-lamp-for-offset-printing/</link>
				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 05:19:30 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-lamp-lab.com/it/posts/mercury-uv-lamp-for-offset-printing/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-lamp-lab.com/images/fdbee480fb33f240ebe21b59374e7e95.png&#34; alt=&#34;Lampada UV al mercurio per stampa offset&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sullo spazio della macchina da stampa, lo spazio non aumenta mai, ma la domanda di produttività sì. La domanda che riceviamo più spesso dagli stampatori offset è semplice: come aumentare la capacità di polimerizzazione del 30% senza allungare l’armadio o modificare la sezione di consegna? La risposta è un sistema modulare di lampade UV al mercurio ad alta efficienza, progettato come un ricambio diretto.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Cosa conta realmente sotto il cofano&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;Questo&lt;/a&gt; modulo utilizza una lampada a vapori di mercurio ad alta pressione con uno spettro ottimizzato per un picco a 365 nm, in corrispondenza della banda di assorbimento dei fotoiniziatori nelle vernici offset standard. Si ottiene un’irradiazione di picco di 12–15 W/cm² &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;misurata&lt;/a&gt; sul piano del substrato, fornendo una densità di energia di polimerizzazione nell’intervallo 800–1200 mJ/cm² per film di inchiostro tipici. Un riflettore in quarzo con rivestimento dicroico concentra l’emissione mantenendo basso il carico infrarosso, mentre il design privo di ozono contribuisce a mantenere le temperature operative entro i limiti. L’emissione rimane stabile per 3.000–5.000 ore, con una manutenzione spettrale entro ±5%.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
