<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Capillare on UV Lamp Lab</title>
		<link>http://uv-lamp-lab.com/it/tags/capillare/</link>
		<description>Recent content in Capillare on UV Lamp Lab</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>it</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 21 Jun 2026 10:33:16 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-lamp-lab.com/it/tags/capillare/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampada UV a capillari</title>
				<link>http://uv-lamp-lab.com/it/posts/capillary-uv-lamp/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 10:33:16 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-lamp-lab.com/it/posts/capillary-uv-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-lamp-lab.com/images/073c64da7862620d00d3df08d4a4560d.jpg&#34; alt=&#34;Lampada UV a capillari&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Su una linea di stampa elettronica, un componente surriscaldato può far chiudere l’intera linea di produzione. I sistemi UV tradizionali emettono energia direttamente sul materiale da stampare; il calore generato può causare danni ai componenti microscopici presenti nel materiale stesso. La lampada UV a tipo capillare &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;risolve&lt;/a&gt; questo problema grazie alla capacità di utilizzare una regolazione termica precisa durante il processo di polimerizzazione.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Quello che è importante è il controllo spettrale e la gestione del calore. La lampada a tipo capillare permette di &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;mantenere&lt;/a&gt; un livello stabile di emissione luminosa, pari a 365 nm o 385 nm, esattamente dove i fotoiniziatori presenti nelle vernici e negli adesivi assorbono l’energia. L’intensità dell’irradiazione viene regolata in modo da raggiungere la densità energetica necessaria per una polimerizzazione completa, solitamente compresa tra 800 e 1200 mJ/cm². Inoltre, la struttura della lampada permette di mantenere l’aumento di temperatura del substrato sotto i 10°C. La geometria dei riflettori e gli strati doppi permettono di concentrare i fotoni nell’area specifica da trattare, riducendo così il calore indesiderato e aumentando l’efficienza del processo di polimerizzazione.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
