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		<title>Fotorresistencia on UV Lamp Lab</title>
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		<description>Recent content in Fotorresistencia on UV Lamp Lab</description>
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				<title>Lámpara de yoduro de galio para fotoresistente</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-lamp-lab.com/images/1dd7856afed9d1a9a2f49fb2a00ef960.png&#34; alt=&#34;Lámpara de yoduro de galio para fotoresistente&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En la impresión por flexografía, se observa un desenfoque en los patrones y efectos de “halo”. En nueve de cada diez casos, esto se debe a una exposición excesiva a los rayos UV: la intensidad de la radiación varía, la emisión espectral cambia, y los umbrales de curado no son suficientes para satisfacer las necesidades de la capa de tinta. Las consecuencias son predecibles: material desperdiciado, trabajo adicional y tiempos de inactividad no planeados.&lt;/p&gt;</description>
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