<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Kapiláry on UV Lamp Lab</title>
		<link>http://uv-lamp-lab.com/cs/tags/kapil%C3%A1ry/</link>
		<description>Recent content in Kapiláry on UV Lamp Lab</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>cs</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 21 Jun 2026 10:33:17 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-lamp-lab.com/cs/tags/kapil%C3%A1ry/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Kapilární UV lampa</title>
				<link>http://uv-lamp-lab.com/cs/posts/capillary-uv-lamp/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 10:33:17 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-lamp-lab.com/cs/posts/capillary-uv-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-lamp-lab.com/images/073c64da7862620d00d3df08d4a4560d.jpg&#34; alt=&#34;Kapilární UV lampa&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;V linii na tisk elektroniky může jeden přehřátý komponenta způsobit výpad celé linky. Standardní UV zařízení vysílají energii přímo na pracovní plochu, což může vést k poškození mikrokomponent. Kapilární UV lampa tento problém řeší díky efektivnímu regulování teploty během procesu vytvrzování.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Důležité je tedy spektrální řízení a kontrola teploty. Kapilární oblouk umožňuje udržet stabilní výstup v rozsahu 365 nm nebo 385 nm – právě v tom rozsahu absorbují světlo fotoiniciátory moderních inkoustů a lepidel. Maximální intenzita záření je nastavena tak, aby odpovídala potřebné energetické hustotě – obvykle 800–1200 mJ/cm² – pro úplné vytvrzení. Úzké kvartové obaly zase zabraňují nárůstu teploty podkladu nad 10 °C. Geometrie reflektorů a dichroické povlaky upravují směr paprsku, čímž se omezí zbytečné teplo a dojde k lepšímu využití fotonů při vytvrzování.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
